S neox objective detail (3)

ALL IN ONE

集共聚焦、白光干涉、相位差干涉、多焦面叠加于一体

共聚焦

共聚焦技术可以用来测量各类样品表面的形貌。它比光学显微镜有更高的横向分辨率,可达0.14um。利用它可实现临界尺寸的测量。当用150倍、0.95数值孔径的镜头时,共聚焦在光滑表面测量斜率达70°(粗糙表面达86°)。专利的共聚焦算法保证Z轴测量重复性在纳米级别。

干涉

相位差干涉是一种亚纳米级精度的 用于测量光滑表面高度形 貌的技术。它的优势在于 任何放大倍数都可以保证 亚纳米级的纵向分辨率。 使用2.5倍的镜头就能实现 超高纵向分辨率的大视场 测量。
白光干涉是一种纳米级测量精度的用 于测量各种表面高度形貌 的技术。它的优势在于任 何放大倍数都可以保证纳米级的纵向分辨率。

多焦面叠加

多焦面叠加技术是用来测 量非常粗糙的表面形貌。 根据Sensofar在共聚焦和干 涉技术融合应用方面的丰 富经验,特别设计了此功 能来补足低倍共聚焦测量 的需要。该技术的最大亮 点是快速(mm/s)、扫描范围 大和支援斜率大(最大86° )。此功能对工件和模具 测量特别有用。
您还可以添加图标,按钮,图片等常用元素。
S neox application (2)
S neox application (1)
S-NEOX
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S neox objective detail (3)

高精度

最高0.01nm高度分辨率

大视野

单视野最大7*5mm

超高速

3秒/视野

多方式

共聚焦、干涉、多焦面叠加

可编程

根据需要定义测量方案

多权限

可设置不同操作权限

定制化

可根据需求定制自动输出方案

易操作

模板化操作,避免人为误差